发明名称 |
一种半导体芯片的减薄方法 |
摘要 |
本发明涉及一种半导体芯片的减薄方法,具体地说是半导体芯片等器件厚度的减薄工艺,属于集成电路制造技术领域。特征是将半导体器件有图形的面朝下行列拼排;需减薄正面粘附在保护膜上,形成一个正方形或长方形;在正方形或长方形外围放置面积、厚度与半导体器件面积、厚度相当的片状物,再围成一个正方形或长方形,使减薄时中间半导体器件受力均匀;再设置减薄厚度,采用磨削法开始减薄;减薄结束后,已减薄芯片后处理;最后交出满足工艺要求芯片。本发明不需改变现有的减薄设备、工装夹具等;减薄后芯片厚度一致与圆片减薄厚度一致性相当,成品率高;芯片级尺寸减薄后芯片边缘无缺损、无裂纹。 |
申请公布号 |
CN100555564C |
申请公布日期 |
2009.10.28 |
申请号 |
CN200810123541.8 |
申请日期 |
2008.06.06 |
申请人 |
无锡中微高科电子有限公司 |
发明人 |
章文;丁荣峥;吴刚 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/30(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
无锡市大为专利商标事务所 |
代理人 |
殷红梅 |
主权项 |
1、一种半导体芯片的减薄方法,其特征是采用以下工艺步骤:(1)、将芯片有图形的面朝下行列拼排;(2)、芯片需减薄正面粘附在保护膜,形成一个正方形或长方形;(3)、在正方形或长方形外围放置面积、厚度与芯片面积、厚度相当的片状物,再围成一个正方形或长方形,使减薄时中间芯片受力均匀;(4)、设置减薄厚度,采用磨削法开始减薄;通过金刚砂轮和吸附芯片的陶瓷吸盘以相反方向旋转,借助于金刚砂轮将芯片磨削变薄为所需厚度,并由纯水带走磨削下来的硅渣;金刚砂轮转速为700~1200转/分钟,并以20~300μm/分钟速度下降,陶瓷吸盘旋转速度为15~25转/分钟,纯水流量为10L~15L/分钟;(5)、减薄结束,用无尘纤维纸擦拭减薄芯片,直至无尘纤维纸上无明显硅屑,然后将已减薄芯片从保护膜上取下;再将减薄芯片正面朝上,距离微型热风机口下方20~30cm,吹10~15分钟;吹干温度为60-100℃;直至芯片表面水迹完全吹干。 |
地址 |
214028江苏省无锡市新区无锡经济开发区泰山路2号国际科技合作园B楼1A-5座 |