发明名称 成膜装置和成膜方法
摘要 本发明提供一种成膜装置和成膜方法,该成膜装置包括:内部被保持为减压空间的处理容器;由以碳为主要成分的材料构成、用于在处理容器内保持基板的基板保持部;配置在处理容器的外侧、用于感应加热基板保持部的线圈;和以覆盖基板保持部、且从处理容器离开的方式配置的绝热部件。上述的减压空间被分离为用于供给成膜气体的成膜气体供给空间,和在基板保持部与处理容器之间被划分形成的绝热空间,绝热空间被供给冷却介质。
申请公布号 CN101568993A 申请公布日期 2009.10.28
申请号 CN200780047845.4 申请日期 2007.11.29
申请人 东京毅力科创株式会社;罗姆股份有限公司 发明人 森崎英介;小林洋克;吉川润;泽田郁夫;木本恒畅;川本典明;明田正俊
分类号 H01L21/205(2006.01)I;C23C16/42(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I 主分类号 H01L21/205(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人 龙 淳
主权项 1.一种成膜装置,其特征在于,包括:内部被保持为减压空间的处理容器;向所述处理容器内供给成膜气体的气体供给机构;由以碳为主要成分的材料构成,在所述处理容器内保持基板的基板保持部;配置在所述处理容器的外侧,对所述基板保持部进行感应加热的线圈;和以覆盖所述基板保持部,且从所述处理容器离开的方式配置的绝热部件,所述减压空间被分离为被供给所述成膜气体的成膜气体供给空间、和在所述基板保持部与所述处理容器之间被划分形成的绝热空间,冷却介质被供给到所述绝热空间。
地址 日本国东京都