| 发明名称 | 形成防反射膜的组合物和使用该组合物的图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种形成顶部抗反射涂层的组合物，其具有如此低的折射率，以使其可以适用于在ArF准分子激光束下形成图案，而且本发明还提供使用该组合物形成图案的方法。顶部抗反射涂层组合物包含特定的萘化合物、聚合物和溶剂。组合物用于形成光致抗蚀层上的顶部抗反射涂层。通过光致抗蚀层，用160～260nm的光可以形成图案。 | ||
| 申请公布号 | CN101568991A | 申请公布日期 | 2009.10.28 |
| 申请号 | CN200780047992.1 | 申请日期 | 2007.12.21 |
| 申请人 | AZ电子材料(日本)株式会社 | 发明人 | 仓本胜利;小林政一;秋山靖 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/11(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种顶部抗反射涂层组合物，用于在光致抗蚀层上形成顶部抗反射涂层，该光致抗蚀层通过用160～260nm的波长范围的光形成图案，该组合物包含萘化合物、聚合物和溶剂。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||