| 发明名称 |
Durable optical system for projection exposure apparatus and method of manufacturing the same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1001314(B1) |
申请公布日期 |
2009.10.28 |
| 申请号 |
EP19990121982 |
申请日期 |
1999.11.10 |
| 申请人 |
NIKON CORPORATION |
发明人 |
JINBO, HIROKI;FUJIWARA, SEISHI |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;C03B8/04;C03B20/00;C03C3/06;G02B13/14;G02B19/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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