DSIPOSITIVO OPTICO DIFRACTIVO Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACION.

摘要

Procedimiento de producción de un dispositivo óptico por medio de litografía por haz de electrones, en el que el dispositivo es escrito por exposición por un haz de electrones que tiene una anchura mínima de 100 nm dentro de una resina fotosensible sensible a un haz de electrones y que incluye la etapa de variar la forma y/o el tamaño del punto del haz de electrones en cualquier dimensión lateral durante una pasada litográfica de manera continua entre exposiciones sucesivas, por múltiplos de la anchura mínima, y con una precisión de colocación equivalente a la dicha anchura mínima y para optimizar el factor de relleno para el nivel de relleno cerca del borde de un patrón escrito, para garantizar un patrón continuo en el dispositivo.