快速气体交换等离子处理装置

摘要

提供一种具有有电极的等离子约束区域的等离子腔。一种用于提供第一气体和第二气体的气体分配系统连接于该等离子腔，其中该气体分配系统可在小于1秒的时间段内将该等离子区域中的一种气体大体上替换为另一种气体。用以给该电极提供第一频率范围的能量的第一频率调谐RF电源电性连接于该至少一个电极，其中该第一频率调谐RF电源能够最小化反射的RF能量。用以给该等离子腔提供第二频率范围的能量的第二频率调谐RF电源，该第二频率范围在该第一频率范围以外，其中该第二频率调谐RF电源能够最小化反射的RF能量。

主权项

1.一种等离子晶片处理工具，包含：等离子腔，其具有等离子约束区域和至少一个电极，该等离子约束区域具有一定体积；用于提供第一气体和第二气体的气体分配系统，其中该气体分配系统可以在小于1秒的时间段内将该等离子区域中的该第一气体和该第二气体中的一种大体上替换为该第一气体和该第二气体中的另一种，其中在该等离子区域内由该第一气体形成的第一等离子体提供第一阻抗负载，而在该等离子区域内由该第二气体形成的第二等离子体提供不同于该第一阻抗负载的第二阻抗负载；第一频率调谐RF电源，以向该至少一个电极提供在第一频率范围的能量，其中该第一频率调谐RF电源能够接受反射的RF能量并调谐输出RF频率以最小化该反射的RF能量；及第二频率调谐RF电源，以向该等离子腔提供在第二频率范围的能量，该第二频率范围在该第一频率范围以外，其中该第二频率调谐RF电源能够接受反射的RF能量并调谐输出RF频率以最小化该反射的RF能量。