| 发明名称 | 抗蚀剂下层膜形成用组合物及图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有在富勒烯骨架中至少键合有一个氨基的(A)氨基化富勒烯和(B)溶剂，蚀刻耐性优异，且在干蚀刻工艺中下层膜图案难以折曲，可以将抗蚀剂图案忠实地、再现性良好地转印在被加工基板上。 | ||
| 申请公布号 | CN101563652A | 申请公布日期 | 2009.10.21 |
| 申请号 | CN200780046971.8 | 申请日期 | 2007.11.19 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 能村仲笃;今野洋助 |
| 分类号 | G03F7/11(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 左嘉勋;刘继富 |
| 主权项 | 1、一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其特征在于，含有在富勒烯骨架中至少键合有一个氨基的(A)氨基化富勒烯和(B)溶剂。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||