曝光装置和定位方法

摘要

本发明提供一种能够进行最佳定位的曝光装置。首先，进行临时定位(S1)，检测出(P1、P2、P3、P4)上的基板标记(10)与掩模标记(20)的偏差(Dp)(S2)，存储其中最大值(MDp)(S3)。重复N次上述动作(S4)，检测出N个最大值(MDp)，求出其中的最小值(MDpmin)(S5)。判别(MDpmin)是否小于规定的值(S6)，如果小于规定的值，则将检测出该最小值(MDpmin)的第n次的定位位置判定为最佳位置(S7)。如果不小于规定的值，则将该基板W判定为不良品(S8)。

主权项

1.一种曝光装置，对作为曝光对象的印刷电路板和绘制有应曝光图形的光掩模进行定位，通过进行曝光照射，在印刷电路板上对所述图形曝光，其特征在于，包括：多个基板标记，设于所述印刷电路板的多个位置点P上，用于进行该印刷电路板与所述光掩模的定位；多个掩模标记，分别与所述多个基板标记对应地设在所述光掩模上；使所述印刷电路板和光掩模相对移动来进行其定位的定位单元；检测与该定位后的各位置点P上所述各基板标记对应的掩模标记的位置偏差Dp的单元；检测各位置点P上所述偏差Dp中的最大值MDp的单元；重复执行N次所述定位，检测出N个各次的最大值MDp的单元；检测出所述N个最大值MDp中的最小值MDmin的单元；判别该最小值MDmin是否小于规定的值的判别单元；和当所述判别单元判别为小于规定的值时，将获得该最小值MDmin的第n次的定位位置判定为最佳定位位置的判定单元。