发明名称 在光盘表面沉积耐酸碱类金刚石薄膜的装置和方法
摘要 本发明涉及光盘表面覆膜方法,在光盘上沉积耐酸碱类金刚石薄膜的方法,利用中低频介质阻挡高压放电,使用小分子碳氢气体,在较低气压条件下,以光盘作为沉积基底,在光盘表面沉积超硬类金刚石薄膜。本发明利用介质阻挡放电等离子体沉积薄膜,具有其独特的优势:如放电方式简单,能耗低,气体流量低,可实现在绝缘介质上沉积。薄膜对于光驱工作读写激光波长在蓝光和红光均具有>90%以上透过性。对于镀膜后的光盘进行读写测试,发现薄膜对于光盘正常工作不产生任何影响。本发明有效的提高光盘表面的化学稳定性和机械性能,镀膜后的光盘具有很好的耐酸碱特性。
申请公布号 CN101560648A 申请公布日期 2009.10.21
申请号 CN200910011587.5 申请日期 2009.05.15
申请人 大连民族学院光电子技术研究所 发明人 刘东平
分类号 C23C16/26(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I;C23C16/02(2006.01)I 主分类号 C23C16/26(2006.01)I
代理机构 大连科技专利代理有限责任公司 代理人 于忠晶
主权项 1、在光盘上沉积耐酸碱类金刚石薄膜的方法,其特征是:利用中低频介质阻挡高压放电,使用小分子碳氢气体,在较低气压条件下,以光盘作为沉积基底,在光盘表面沉积超硬类金刚石薄膜。
地址 116600辽宁省大连市经济技术开发区辽河西路18号
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