磁控溅射设备和薄膜的制造方法

摘要

磁控溅射设备和薄膜的制造方法。为了通过磁控溅射形成LaB₆薄膜，对靶材(11)施加直流电力和来自高频电源(193)的已滤掉低频成分的高频成分电力，并且在施加高频成分电力和直流电力期间，对基板保持件(13)施加来自另一直流电源(21)的直流电力。从而，改进了所获得的LaB₆薄膜的大面积晶域方向上的单晶性。

主权项

1.一种磁控溅射设备，其包括：第一室；排气装置，其用于对所述第一室的内部进行真空排气；阴极，其能够安装由含有硼原子和镧原子的硼-镧化合物构成的靶材；高频电源，其用于对所述阴极施加高频电力；第一直流电源，其用于在施加所述高频电力期间对所述阴极施加直流电力；磁场生成装置，其用于使所述靶材的表面暴露于磁场；第一基板保持件，其用于将基板保持在与所述阴极相对的位置处；以及第二直流电源，其用于对所述第一基板保持件施加直流电力。