双镶嵌应用中底部抗反射涂层的两步蚀刻

摘要

本发明中提供了用于从特征中去除BARC层的方法。在一个实施例中，该方法包括在蚀刻室中提供具有填充了BARC层的特征的衬底，为了蚀刻填充在特征中的BARC层的第一部分，将包含NH₃气体的第一气体混合物充入到室中并且为了蚀刻布置在特征中的BARC层的残余部分，将包含O₂气体的第一气体混合物充入到蚀刻室中。

主权项

1.—种用于从形成于双镶嵌结构中的特征中去除BARC层的方法，包括：在蚀刻室中提供具有填充了BARC层的特征的衬底，其中该特征包括与限定在介电体绝缘层中的通孔相连的沟槽，其中该BARC层填充在该通孔内；为了在提供介电体绝缘层的侧壁保护的同时蚀刻填充在特征中的BARC层的第一部分，将包含NH3气体的第—气体混合物充入到室中；以及为了蚀刻布置在特征中的BARC层的残余部分，将包含O2气体的第二气体混合物充入到蚀刻室中。