定位系统、光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种定位系统、一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述定位系统用以在光刻设备的底架内以定位台，所述定位系统包括：用以施加致动力到所述台上的第一致动器，该第一致动器连接到构造并配置成吸收该第一致动器的反作用力的第一平衡质量块，其中该定位系统还包括控制器和第二致动器，所述控制器和第二致动器构造并配置成施加补偿力和/或扭矩以补偿由第一致动器施加到第一平衡质量块上的致动力引起的扭矩。

主权项

1.一种用于定位支撑件的定位系统，包括：第一致动器，其构造成施加致动力到所述支撑件上，所述第一致动器耦合到第一平衡质量块，所述第一平衡质量块构造并配置成吸收由所述第一致动器产生的所述致动力导致的反作用力；和控制器和第二致动器，所述控制器和第二致动器构造并配置成施加补偿作用力，以补偿由所述第一致动器施加在所述第一平衡质量块上的所述致动力引起的扭矩。