发明名称 能回火的、反射红外辐射的层体系及制备该层体系的方法
摘要 本发明涉及在透明基底上的、反射红外辐射的层体系以及制备这种层体系的方法。本发明的任务在于,提供一种层体系及制备该层体系的方法,该层体系在基底热处理的要求苛刻的气候条件下和/或在玻璃基底状态未限定的情况下,能保证足够的质量,特别是在可见光区域内可调节的、约为10至80%的透射率以及低发射率,并同时使得层体系的颜色位置最大程度的稳定性成为可能,该任务通过可回火的、反射红外线的并在可见光范围内可有针对性调整地进行吸收的、用以涂布介电基底(S0)的层体系来解决,根据本发明所述层体系在基底(S0)上按如下顺序具有高折射的透明介电层S2、基底侧的吸收或阻挡层S3、功能性的金属反射层S4、上吸收或阻挡层S5以及高折射的透明介电层S6。根据本发明的层体系使得在可见光区域内可调节透射率为约10%至约80%的情况下,玻璃基底上可回火的、红外线(IR)-反射性层体系(低辐射)的特性与可回火的日光控制体系的特性的组合成为可能。
申请公布号 CN101563302A 申请公布日期 2009.10.21
申请号 CN200780029580.5 申请日期 2007.08.10
申请人 冯·阿德纳设备有限公司 发明人 克里斯多佛·科克尔特;霍尔格·普勒尔
分类号 C03C17/36(2006.01)I 主分类号 C03C17/36(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 车 文;安 翔
主权项 1.能回火的、反射红外线的且能有针对性调整地进行吸收的、用以涂布介电的基底(S0)的层体系,所述层体系在所述基底(S0)上按如下顺序具有至少一个高折射的透明介电层S2、基底侧的吸收或阻挡层S3、功能性的金属反射层S4、上吸收或阻挡层S5以及高折射的透明介电层S6。
地址 德国德累斯顿