| 发明名称 | 碳质膜的制造方法和制造装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种使用固体原料、并且不需要供给激光等高能量射线而制造DLC膜等碳质膜的方法和装置。该方法包括准备作为原料的固体状有机材料的工序；向该材料施加放电能量，形成等离子体的工序；和使该等离子体堆积在基材上，形成碳质膜的工序。该方法优选使用具备放电单元(10)的膜制造装置(1)实施，该放电单元(10)具有保持原料(50)的一对电极(原料保持件)(12、14)和向该电极间施加电压的电压施加单元(20)。 | ||
| 申请公布号 | CN101563480A | 申请公布日期 | 2009.10.21 |
| 申请号 | CN200780045097.6 | 申请日期 | 2007.12.07 |
| 申请人 | 国立大学法人名古屋大学;国立大学法人东京大学 | 发明人 | 上坂裕之;小泉宏之;滨岛绘里;梅原德次;荒川义博 |
| 分类号 | C23C16/27(2006.01)I;C23C16/503(2006.01)I;C01B31/02(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/27(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1.一种碳质膜制造方法，其为在基材上形成碳质膜的方法，其特征在于，包括：准备作为原料的固体状有机材料的工序；通过向所述材料施加放电能量，由该材料形成等离子体的工序；和使该等离子体堆积在基材上，形成碳质膜的工序。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||