发明名称 |
调整机构及其调整方法与晶片制造方法 |
摘要 |
一种调整机构及其调整方法与晶片制造方法。调整机构用以调整一晶舟于一炉管内与炉管平行设置。炉管具有一容置槽及一开口,容置槽具有一第一对称中心线,晶舟具有一第二对称中心线。当晶舟经由开口插入容置槽时,容置槽的槽壁与晶舟的侧面之间具有一第一间隙区域。调整机构包括一调整工装用具及一调整组件。调整工装用具以可插拔的方式设置于开口处,并具有一宽部、一窄部及一贯孔。贯孔贯穿宽部及窄部,窄部用以塞住开口,使宽部暴露于开口外。当晶舟贯穿贯孔及开口而进入容置槽时,贯孔于窄部处的孔壁与晶舟的侧面之间具有一第二间隙区域,第二间隙区域小于第一间隙区域。调整组件用以根据第二间隙区域,调整第一对称中心线及第二对称中心线相互平行。 |
申请公布号 |
CN100552911C |
申请公布日期 |
2009.10.21 |
申请号 |
CN200610054913.7 |
申请日期 |
2006.02.16 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 |
发明人 |
郝鸿虎;曾国邦 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I;F27B9/38(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
任永武 |
主权项 |
1.一种调整机构,用以调整一晶舟于一炉管内与该炉管平行设置,该炉管具有一容置槽及一开口,该容置槽具有一第一对称中心线,该晶舟具有一第二对称中心线,当该晶舟经由该开口插入该容置槽时,该容置槽的槽壁与该晶舟的侧面之间具有一第一间隙区域,该调整机构包括:一调整工装用具,以可插拔的方式设置于该开口处,并具有一宽部、一窄部及一贯孔,该贯孔贯穿该宽部及该窄部,该窄部用以塞住该开口,使该宽部暴露于该开口外,当该晶舟贯穿该贯孔及该开口而进入该容置槽时,该贯孔于该窄部处的孔壁与该晶舟的侧面之间具有一第二间隙区域,该第二间隙区域小于该第一间隙区域;以及一调整组件,用以根据该第二间隙区域,调整该第一对称中心线及该第二对称中心线相互平行。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行路16号 |