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发明名称 METHOD FOR REDUCING AND HOMOGENIZING THE THICKNESS OF A SEMICONDUCTOR LAYER WHICH LIES ON THE SURFACE OF AN ELECTRICALLY INSULATING MATERIAL
摘要
申请公布号 KR100922834(B1) 申请公布日期 2009.10.20
申请号 KR20080001673 申请日期 2008.01.07
申请人 发明人
分类号 H01L21/302;H01L21/304;H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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