Prosess for kontrollert destruksjon av SiCl4 og Cl2 i avgasser fra SiCl4 produksjons- og prosesseringsenheter

摘要

Den foreliggende oppfinnelsen dreier seg om en prosess for kontrollert destruering av SiCl4 Og Cl2 i avgasser fra produksjons- og prosesseringsenheter for SiCl4, karakterisert ved at avgassene som inneholder SiCl4-gass bringes i kontakt med vanndamp i en nedbrytingsbeholder der reaksjonen som skal danne silikapartikler og HCl-gass framhjelpes og silikapartiklene deretter oppfanges inne i en syklon og/eller ett eller flere filter mens HCl-gassen sammen med de andre avgassene føres inn i en vannløsning av NaOH eller en annen løsning som egner seg for å destruere HCl. Vanndampen dannes på bruksstedet ved å føre luft gjennom vann eller en vandig løsning som kan destruere HCl og Cl2 ved en kontrollert temperatur som oppnås ved ekstern oppvarming slik at man oppnår metning av lufta med vanndamp ved den aktuelle temperaturen.