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发明名称
STRAHLUNGSSYSTEM UND LITHOGRAFISCHE VORRICHTUNG
摘要
申请公布号
AT445863(T)
申请公布日期
2009.10.15
申请号
AT20060077059T
申请日期
2006.11.20
申请人
ASML NETHERLANDS B.V.
发明人
VAN HERPEN, MAARTEN MARINUS JOHANNES W;KLUNDER, DERK JAN WILFRED;MOORS, JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA
分类号
G03F7/20;G21K1/04
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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