| 发明名称 | 等离子体处理容器和等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种等离子体处理容器和具有该等离子体处理容器的等离子体处理装置。能够极力减轻等离子体处理容器的阳极氧化处理所需的操作时间和成本。在等离子体处理容器中，衬垫(102)插入侧壁(1b)和顶板(1c)的接合部位，其前端到达内侧O型环(111)。等离子体和腐蚀性气体在内侧O型环(111)的位置被遮断，所以等离子体和腐蚀性气体不会到达侧壁(1b)和顶板(1c)所直接抵接的位置，不需要顶板(1c)的阳极氧化处理。 | ||
| 申请公布号 | CN101556913A | 申请公布日期 | 2009.10.14 |
| 申请号 | CN200910134905.7 | 申请日期 | 2009.04.09 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 出口新悟 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1.一种等离子体处理容器，其形成收纳被处理体而进行等离子体处理的处理室，其特征在于，具有：接合多个容器构成部件而形成的容器主体；配设在所述容器构成部件间的接合部分的第一密封部件；安装在所述容器主体的内面而保护所述容器主体的保护部件，在所述容器构成部件间的接合部分设有通过将所述保护部件从所述处理室内部插入直至到达所述第一密封部件的位置而使所述第一密封部件和所述保护部件抵接的第一密封部。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||