| 发明名称 | 磁记录介质及其制造方法 | ||
| 摘要 | 为了制造廉价的高密度磁记录介质，本申请提供一种高-密度磁记录介质，由平坦的衬底(101)、具有周期性凹陷-突出结构的非磁性中间体(114)以及在该中间体上形成的磁薄膜(111)构成。 | ||
| 申请公布号 | CN100550136C | 申请公布日期 | 2009.10.14 |
| 申请号 | CN200610159544.8 | 申请日期 | 2006.09.27 |
| 申请人 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 发明人 | 萩野谷千积;安藤拓司;荻野雅彦 |
| 分类号 | G11B5/66(2006.01)I;G11B5/667(2006.01)I;G11B5/738(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I;B29C43/00(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 李 涛;钟 强 |
| 主权项 | 1.磁记录介质，包括：平坦的衬底，在所述衬底的至少一个表面上形成的非磁性中间体，以及在所述非磁性中间体上形成的磁记录层，其中，所述非磁性中间体具有对应于其表面上的磁道间距或位周期的凹陷-突出结构，并且所述非磁性中间体具有小于0.05的体积分数孔隙率。 | ||
| 地址 | 荷兰阿姆斯特丹 | ||