发明名称 蒸发温度敏感材料
摘要 一种将材料蒸发到基材表面以形成膜的方法,包括提供一定量的材料到蒸发装置中,在处于第一温度条件的该蒸发装置中加热该材料,和施加作用于一部分材料的热脉冲以引起材料的该部分蒸发并且被施加到基材表面。
申请公布号 CN100549218C 申请公布日期 2009.10.14
申请号 CN200580019502.8 申请日期 2005.06.03
申请人 伊斯曼柯达公司 发明人 J·M·格雷斯;M·龙;B·E·科普
分类号 C23C14/24(2006.01)I;C23C14/26(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 韦欣华;范 赤
主权项 1.一种将有机材料蒸发到基材表面以沉积具有控制厚度和均一度的有机膜的方法,其中基材表面具有至少一个超过20cm的边,包括:a)提供定量的有机材料到限定沉积区的蒸发装置中;b)主动地保持蒸发装置中的有机材料在基础温度Tb;和c)通过对加热器施加电流来对一部分有机材料施加热脉冲,以升高该材料部分温度至大于Tb的温度TV,从而引起该材料部分蒸发为蒸气流并且被施加到暴露于所述沉积区中的蒸发材料的基材表面的预定部分;d)向基材提供步进式运动,其中该运动是沉积区的预定片段,所述片段小于或等于沉积区长度的一半,从而改变基材表面相对于所述沉积区的位置;和e)重复步骤c)和d)一或多次,直到所述基材从沉积区的一端运动到另一端,以在基材表面沉积具有控制厚度和均一度的有机膜。
地址 美国纽约州