发明名称 Positive resist composition and pattern formation method using the positive resist composition
摘要
申请公布号 EP1835343(B1) 申请公布日期 2009.10.14
申请号 EP20070005242 申请日期 2007.03.14
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 IWATO, KAORU;KODAMA, KUNIHIKO;YOSHIDA, YUKO;YAMAMOTO, KEI
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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