| 发明名称 | 基片处理系统 | ||
| 摘要 | 在一种用于在真空中处理基片的基片处理系统中，由处理模块构成的两个直线组件一个堆叠在另一个上面，并通过至少一个提升模块来连接，该提升模块能够用于从第一组向第二组进行输送。沿穿过第一组和第二组处理模块的运行路径布置有直线同步马达。具有导轨(该导轨与安装在处理系统中的辊相互作用)的基片载体通过所述直线同步马达的吸引力而保持在竖向位置。 | ||
| 申请公布号 | CN100550286C | 申请公布日期 | 2009.10.14 |
| 申请号 | CN200580030602.0 | 申请日期 | 2005.09.07 |
| 申请人 | OC欧瑞康巴尔斯公司 | 发明人 | H·罗尔曼;O·拉图恩德 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 范晓斌 |
| 主权项 | 1.一种基片处理系统，用于在真空中处理基片，该系统包括：第一直线组的处理模块(14)；第二直线组的处理模块，第二组处理模块堆叠在第一组处理模块(14)的上方；至少一个提升模块(18)，能够进行从第一组至第二组的输送；穿过第一和第二组处理模块的运行路径；沿所述运行路径布置的直线同步马达；具有导轨(3、5)的至少一个基片载体，所述基片载体处于竖向方位上并可沿所述运行路径移动；用于所述基片载体的输送系统，其具有安装在第一和第二组处理模块中的下排辊(4)和上排辊(6)；所述下排和上排辊(4、6)与所述基片载体(2)的导轨(3、5)相互作用，且所述直线同步马达的吸引力将该基片载体保持在竖向位置；其中，所述基片载体装备有至少两个间隔开的铁磁材料件(12)。 | ||
| 地址 | 列支敦士登巴尔策斯 | ||