发明名称 巯基化合物的合成方法
摘要 本发明涉及一种巯基化合物的合成方法,该方法包括以下步骤:在有机溶剂及有机碱存在下,将醛基化合物、氨和硫加热回流反应得到第一噻唑啉类化合物中间体;将所述第一噻唑啉类化合物中间体的溶液调成酸性,滴加还原剂将第一噻唑啉类化合物中间体还原成第二噻唑烷类化合物中间体后,用醚萃取除杂;在有机溶剂覆盖和气体保护的条件下,将所述第二噻唑烷类化合物中间体水溶液与芳香肼保温回流得到巯基化合物水溶液,使用有机溶剂萃取除杂得到纯净的巯基化合物水溶液,减压蒸干得到巯基化合物。本发明的巯基化合物的合成方法简单,只有三个步骤,且合成方法中使用的原料来源广泛,反应条件温和,具有可造作性强的优点。
申请公布号 CN101555220A 申请公布日期 2009.10.14
申请号 CN200910300401.8 申请日期 2009.02.13
申请人 赵云现 发明人 赵云现;李超
分类号 C07C323/25(2006.01)I;C07C319/06(2006.01)I 主分类号 C07C323/25(2006.01)I
代理机构 北京轻创知识产权代理有限公司 代理人 杨 立
主权项 1.一种巯基化合物的合成方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤10、在有机溶剂及有机碱存在下,将醛基化合物、氨和硫加热回流反应得到第一噻唑啉类化合物中间体:<img file="A2009103004010002C1.GIF" wi="807" he="357" />,其中,Rm1、Rm2为烷基取代基;步骤20、将所述第一噻唑啉类化合物中间体的溶液调成酸性,滴加还原剂将第一噻唑啉类化合物中间体还原成第二噻唑烷类化合物中间体:<img file="A2009103004010002C2.GIF" wi="802" he="319" />后,用醚萃取除杂;步骤30、在有机溶剂覆盖和气体保护的条件下,将所述第二噻唑烷类化合物中间体水溶液与芳香肼保温回流得到巯基化合物水溶液,使用有机溶剂萃取除杂得到纯净的巯基化合物水溶液,减压蒸干得到巯基化合物:<img file="A2009103004010003C1.GIF" wi="781" he="320" />
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