发明名称 |
硅石还原法生产硅 |
摘要 |
本发明涉及将硅石还原获得硅的工业生产方法。利用杂质含量受到控制的含碳质素的还原剂在高温下还原杂质含量受到控制的硅石,可以生产出杂质如铁、铝、钙、锰等符合一定要求的不同用途的硅原料,包括硅铁,金属硅,化学用硅等。 |
申请公布号 |
CN101555011A |
申请公布日期 |
2009.10.14 |
申请号 |
CN200810091442.6 |
申请日期 |
2008.04.12 |
申请人 |
于旭宏 |
发明人 |
(请求不公开姓名) |
分类号 |
C01B33/023(2006.01)I |
主分类号 |
C01B33/023(2006.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
1、一种硅或硅合金的生产方法,其特征是,采用碳化硅作还原剂,在高温下还原硅石(二氧化硅),或硅石和含合金元素的矿石混合料,生成硅或硅合金。 |
地址 |
200235上海市徐汇区中山西路2006号甲704 |