发明名称 | 晶体管器件和制造这一晶体管器件的方法 | ||
摘要 | 一种晶体管器件(10),该晶体管器件(10)包括:衬底(11,14);在衬底(11,14)上沿着水平方向成一条直线的鳍(3,3A);鳍(3,3A)中的第一种电导类型的第一源极/漏极区域(4);鳍(3,3A)中的第二种电导类型的第二源极/漏极区域(5),其中第一种电导类型不同于第二种电导类型;在鳍(3,3A)中介于第一源极/漏极区域(4)与第二源极/漏极区域(5)之间的沟道区域(33);沟道区域(33)上的栅极绝缘体(6);和在栅极绝缘体(6)上的栅极结构(7,8),其中第一源极/漏极区域(4)、沟道区域(33)和第二源极/漏极区域(5)的序列沿着水平方向成一条直线。 | ||
申请公布号 | CN101558497A | 申请公布日期 | 2009.10.14 |
申请号 | CN200780046404.2 | 申请日期 | 2007.12.10 |
申请人 | NXP股份有限公司 | 发明人 | 塞巴斯蒂安·努汀克;吉尔贝托·库拉托拉 |
分类号 | H01L29/739(2006.01)I | 主分类号 | H01L29/739(2006.01)I |
代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 陈 源;张天舒 |
主权项 | 1.一种晶体管器件(10),该晶体管器件(10)包括衬底(11,14);在衬底(11,14)上沿着水平方向延伸的鳍(3,3A);鳍(3,3A)中的第一种电导类型的第一源极/漏极区域(4);鳍(3,3A)中的第二种电导类型的第二源极/漏极区域(5),其中第一种电导类型不同于第二种电导类型;鳍(3,3A)中介于第一源极/漏极区域(4)与第二源极/漏极区域(5)之间的沟道区域(33);沟道区域(33)上的栅极绝缘体(6);栅极绝缘体(6)上的栅极结构(7,8);其中,在水平方向上,沟道区域(33)在第一源极/漏极区域(4)和第二源极/漏极区域(5)之间延伸。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |