| 发明名称 | 电压操作的分层装置 | ||
| 摘要 | 一种电压操作的分层装置，包括：衬底(1)；分层结构(2，3，4，5)，其被施加到衬底并且包括布置在第一电极(2)和第二电极(4)之间的至少一个导电功能层(3)；以及场退化层(5)，其比功能层(3)导电性更小并且以这样的方式被施加到布置在分层结构的远离衬底一侧上的第二电极(4)：使得场退化层(5)至少在边缘(4a)的区域中覆盖所述第二电极(4)且将所述第二电极(4)电连接到所述第一电极(2)。 | ||
| 申请公布号 | CN101558684A | 申请公布日期 | 2009.10.14 |
| 申请号 | CN200780046162.7 | 申请日期 | 2007.12.07 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | H·-P·洛布尔;H·F·博纳 |
| 分类号 | H05B33/22(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I | 主分类号 | H05B33/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 龚海军;刘 红 |
| 主权项 | 1.一种电压操作的分层装置，包括：-衬底(1)，-分层结构(2，3，4，5)，其被施加到衬底并且包括布置在第一电极(2)和第二电极(4)之间的至少一个导电功能层(3)，以及-场退化层(5)，其比功能层(3)导电性更小并且以这样的方式被施加到布置在分层结构的远离衬底一侧上的第二电极(4)：使得场退化层(5)至少在边缘(4a)的区域中覆盖所述第二电极(4)且将所述第二电极(4)电连接到所述第一电极(2)。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||