发明名称 |
液体处理装置及液体处理方法 |
摘要 |
一种液体处理装置,具备:水平保持基板(W)并能够与基板一同旋转的基板保持部(2);以围绕被基板保持部保持的基板的方式形成为环状,并能够与基板一同旋转的呈环状的旋转杯体(4);使旋转杯体及基板保持部一体旋转的旋转机构(3);向基板供给处理液的液体供给机构(5)。液体处理装置还具备:呈与旋转杯体对应的环状,承接从旋转杯体排出的处理液,并且具有将所承接的处理液排出的排液口(60)的排液杯体(51);以及在使旋转杯体及基板保持部旋转时,在排液杯体内形成回旋流,伴随着该回旋流将排液杯体内的处理液导向排液口的回旋流形成部件(32a)。 |
申请公布号 |
CN100550291C |
申请公布日期 |
2009.10.14 |
申请号 |
CN200710110338.2 |
申请日期 |
2007.06.13 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
难波宏光;伊藤规宏 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/30(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I;G03F7/30(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
温大鹏 |
主权项 |
1、一种液体处理装置,其特征在于,具备:水平保持基板(W)并能够与基板一同旋转的基板保持部(2);以围绕被前述基板保持部保持的基板的方式形成为环状,并能够与基板一同旋转的呈环状的旋转杯体(4);使前述旋转杯体及前述基板保持部一体旋转的旋转机构(3);向基板供给处理液的液体供给机构(5);呈与前述旋转杯体对应的环状,承接从前述旋转杯体排出的处理液,并且具有将所承接的处理液排出的排液口(60)的排液杯体(51),上述装置还具备插入前述排液杯体(51)的内部并与前述旋转杯体(4)及前述基板保持部(2)的旋转一起旋转的回旋流形成部件(32a),在使前述旋转杯体(4)及前述基板保持部(2)旋转时,从前述旋转杯体向前述排液杯体(51)内排出处理液,并且利用前述回旋流形成部件(32a)的旋转而在前述排液杯体内形成回旋流,伴随着该回旋流将排出到前述排液杯体内的处理液导向前述排液口。 |
地址 |
日本东京都 |