| 发明名称 | 非离子型聚合物在自停止多晶硅抛光液制备及使用中的应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了重复单元中含有-(RO)-或-(RCOO)-基团的聚合物在可实现自停止机制的多晶硅化学机械抛光液的制备及其使用中的应用，其中R为碳原子数为1～10的烷基。本发明所述的聚合物用于抛光液的制备及其使用，可在固定的常规工艺参数抛光条件下实现自停止机制的多晶硅化学机械抛光过程，从而避免二氧化硅沟道中多晶硅碟形凹损缺陷的发生，及去除二氧化硅碟形凹损中的多晶硅残留，增高抛光后晶片表面的平坦度，且具有工艺窗口宽的特点，可使得生产率大大提高，生产成本大大降低。 | ||
| 申请公布号 | CN101558126A | 申请公布日期 | 2009.10.14 |
| 申请号 | CN200780044724.4 | 申请日期 | 2007.12.07 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 杨春晓;荆建芬 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C09G1/16(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | PCT国内申请，权利要求书已公开。 | ||
| 地址 | 201203中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||