发明名称 Mask design using library of corrections
摘要 Systems, techniques, and approaches to quickly generate mask patterns, synthesize near-fields, and design masks. In one aspect, a mask may be designed by modeling the transmitted field using a library of corrections and a fast field model.
申请公布号 US7603648(B2) 申请公布日期 2009.10.13
申请号 US20050174336 申请日期 2005.06.29
申请人 INTEL CORPORATION 发明人 LIU PENG;SINGH VIVEK;HU BIN
分类号 G06F17/50;G03C5/00;G03F9/00;H01L21/76 主分类号 G06F17/50
代理机构 代理人
主权项
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