发明名称 双闸极及三闸极金氧半导体场效电晶体装置及其制造方法
摘要 一种双闸极金属氧化物半导体场放电晶体(MOSFET)系包括鳍部(fin)(220)、第一闸极(240)和第二闸极(420);该第一闸极(240)形成于鳍部(220)之上端,第二闸极(420)则围绕该鳍部(220)和第一闸极(240);于另一实施例中,一三闸极MOSFET包括鳍部(220)、第一闸极(710)、第二闸极(720)和第三闸极(730),该第一闸极(710)形成于鳍部(220)之上端,第二闸极(720)紧邻着鳍部(220)形成,第三闸极(730)紧邻着鳍部(220)并相对于第二闸极而形成(720)。
申请公布号 TWI315911 申请公布日期 2009.10.11
申请号 TW092129118 申请日期 2003.10.21
申请人 高级微装置公司 发明人 林明仁;安西琳;卡瓦皮克 罗兰;泰伯瑞 赛若斯E;王海宏;俞宾
分类号 H01L29/76 主分类号 H01L29/76
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项 一种于金属氧化物半导体场效电晶体(MOSFET)中形成闸极之方法,该方法之特征在于:形成鳍部(fin)结构;于该鳍部结构之上端形成第一闸极结构;以及在该鳍部结构和该第一闸极结构之周围形成第二闸极结构。
地址 美国