溅镀磁控管

摘要

本发明系关于一种磁控管，具有一平坦标靶及一平坦磁铁系统。平坦磁铁系统包含一具有扩大尾端的棒状第一磁极及一框架状第二磁极，其中磁极与标靶之间的相对移动使得在静止标靶的情况下移动的磁铁系统之每一点在一圆形路径上移动。假如磁铁系统是静止的话，标靶的每一点在此一圆形路径上移动。在彼此之间产生相对移动的期间，磁铁系统与标靶是位于平行平面中。此圆形路径的直径会对应于一电浆管的两平行臂之间的平均距离，此电浆管系于溅镀操作期间在第一与第二磁极之间产生的。藉此，在电浆管的曲线区域中之磁铁之设置方式，能使磁极线在此位置上形成一圆弧或圆形区域，而避免了在标靶内的孔洞。

主权项

一种溅镀磁控管，具有一平坦标靶及一平坦磁铁结构，其中磁铁结构包含一棒状第一磁极与一框架状第二磁极，且其中标靶与磁铁结构可以彼此产生相对移动，使得标靶的每一点相对于磁铁结构在一圆形上产生移动，其特征在于棒状第一磁极(3,26)的尾端系扩大成圆形形状并且该扩大尾端具有一直径D，系至少对应于一电浆管的两平行臂(13,14)之间的平均距离，该电浆管(12)系在溅镀操作期间于第一与第二磁极(3,2)之间产生的。