具有回应数种频率的电极之电浆处理器

摘要

一种位于一用以处理一工件的真空室中之电浆系受到一电浆限制容积所包围，其中该电浆限制容积系包括一位于一同时地回应第一及第二RF频率的功率之第一电极与一DC接地第二电极之间之区域。一DC接地延伸部大致对准于第一电极。显着百分比之第一频率的功率系耦合至一包括第一及第二电极而非延伸部之路径，而显着百分比之第二频率的功率系耦合至一包括第一电极及延伸部而非第二电极之路径。藉由改变施加至第一电极之第一及第二频率的相对功率来控制第一电极之DC偏压电压。

主权项

一种包含一真空室之电浆处理器，该真空室具有：(a)一用于将气体耦合至该室之埠，(b)一用于将电场施加至该室中的气体之第一电极，(c)一与该第一电极分隔之第二电极，该第二电极处于一DC参考电位，该室配置成为可使该气体被激励成一区域中的一电浆，其中该区域系包括一位于该等电极之间的容积；用于使该第一电极将具有数种频率的电场供应至该电浆之电路；该室系包括一种可使不同频率的功率采行显着不同路径通过该区域之配置。