发明名称 |
磁电装置之合成反铁磁性结构 |
摘要 |
一种近乎平衡的合成反磁铁性(SAF)结构有利于使用在磁电装置上,例如:一磁阻式记忆胞,包括两个铁磁层和一反铁磁性耦合层,将该两个铁磁层分开。该SAF自由层具有复数个弱耦合区,以例如像反铁磁性耦合层的退火,多层法或在一铁磁层粗糙表面上形成反铁磁性耦合层的处理方式,形成在该反铁磁性耦合层中。相较于未处理的SAF自由层,该弱耦合区降低了该SAF自由层的翻转场。在此结构的写入动作期间,使用该SAF翻转,而它的减少会在写入动作时,有较低的耗电量,因而增加装置的效能。 |
申请公布号 |
TWI315907 |
申请公布日期 |
2009.10.11 |
申请号 |
TW092131682 |
申请日期 |
2003.11.12 |
申请人 |
艾尔斯宾科技公司 |
发明人 |
杰森 艾伦 詹斯基;布莱利N. 安杰;尼可拉斯D. 里佐;强M. 史劳特 |
分类号 |
H01L27/01 |
主分类号 |
H01L27/01 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种磁电记忆体装置,其包括:一近乎平衡合成反铁磁性(SAF)结构,包括两个铁磁层,及一反向耦合层,其将该两个铁磁层分开及在此具有弱耦合区域(WCR);及一装置,其系用以在该近乎平衡SAF中,感应一应用磁场。 |
地址 |
美国 |