发明名称 磁电装置之合成反铁磁性结构
摘要 一种近乎平衡的合成反磁铁性(SAF)结构有利于使用在磁电装置上,例如:一磁阻式记忆胞,包括两个铁磁层和一反铁磁性耦合层,将该两个铁磁层分开。该SAF自由层具有复数个弱耦合区,以例如像反铁磁性耦合层的退火,多层法或在一铁磁层粗糙表面上形成反铁磁性耦合层的处理方式,形成在该反铁磁性耦合层中。相较于未处理的SAF自由层,该弱耦合区降低了该SAF自由层的翻转场。在此结构的写入动作期间,使用该SAF翻转,而它的减少会在写入动作时,有较低的耗电量,因而增加装置的效能。
申请公布号 TWI315907 申请公布日期 2009.10.11
申请号 TW092131682 申请日期 2003.11.12
申请人 艾尔斯宾科技公司 发明人 杰森 艾伦 詹斯基;布莱利N. 安杰;尼可拉斯D. 里佐;强M. 史劳特
分类号 H01L27/01 主分类号 H01L27/01
代理机构 代理人 陈长文
主权项 一种磁电记忆体装置,其包括:一近乎平衡合成反铁磁性(SAF)结构,包括两个铁磁层,及一反向耦合层,其将该两个铁磁层分开及在此具有弱耦合区域(WCR);及一装置,其系用以在该近乎平衡SAF中,感应一应用磁场。
地址 美国
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