| 摘要 |
Способ накопления водорода и его изотопов, состоящий в размещении накопителя водорода в вакууме или любой остаточной атмосфере, содержащей водород и его изотопы и выдерживаемый в заданной остаточной атмосфере при контролируемой температуре в течение заданного времени, после чего при повышенной температуре происходит процесс удаления из накопителя накопленного газа, отличающийся тем, что, с целью накопления требуемого Nт количества атомов водорода или его изотопов, используется накопитель, который выполнен в виде сплошного металлического образца, и который подвергается в процессе накопления трению при температуре, не отличающейся от температуры окружающей среды, при парциальных давлениях газов, содержащих водород и его изотопы не отличающихся от значений, соответствующих «нормальным» условиям, при этом время накопления определяется интегральной суммой накопленных молекул Nт, зависящей от параметров процесса трения ! ! где ! Fт - площадь поверхности накопителя, подвергаемая трению; ! CsurfH - концентрация атомов водорода или его изотопа в первом монослое, сорбированном на поверхности трения; ! ! Θ - коэфициент покрытия поверхности трения сорбированным водородом или его изотопом ! ! Е1 - теплота физической адсорбции первого слоя Дж·кмоль-1; ! ЕL - теплота парообразования L-го слоя, Дж·моль-1; ! р, ps - истинное давление и давление насыщающих паров сорбата, Па; ! R - универсальная газовая постоянная; ! T - температура сорбата; ! N1П - число «мест» для сорбируемых молекул водорода или его изотопов на единичной площади поверхности накопителя, подвергаемой трению; ! d0 - диаметр молекулы сорбата (d0=0,3 нм); ! Сi - начальная концентраци |
