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发明名称 PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ASSISTE PAR PLASMA D'UN FILM CARBONE/METAL.
摘要
申请公布号 FR2918078(B1) 申请公布日期 2009.10.09
申请号 FR20070004572 申请日期 2007.06.26
申请人 COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ETABLISSEMENT PUBLIC A CARACTERE INDUSTRIEL ET COMMERCIAL 发明人 THOLLON STEPHANIE;DONET SEBASTIEN
分类号 C23C16/448;C23C16/06 主分类号 C23C16/448
代理机构 代理人
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