发明名称 |
Vorrichtung zur zweidimensionalen Abbildung von Szenen durch Mikrowellen-Abtastung und Verwendung der Vorrichtung |
摘要 |
Zur zweidimensionalen Szenenabbildung durch kontinuierliche, passive oder aktive Mikrowellen-Abtastung dient eine vollmechanische Richtantennenanordnung mit Hauptreflektor (1), Primärstrahleranordnung (3) und einem relativ zum Hauptreflektor klein bemessenen Subreflektor (2), der bezüglich der optischen Achse (7) der Richtantennenanordnung geneigt ist. Erste Antriebsmittel (8) sorgen für eine Rotation des Subreflektors um die optische Achse und zweite Antriebsmittel (17, 18) für eine Bewegung der gesamten Richtantennenanordnung in einer Richtung zumindest angenähert senkrecht zur optischen Achse. Die Bewegungsgeschwindigkeit des Subreflektors ist zu derjenigen der gesamten Richtantennenanordrm, Primärstrahler, Abstand Primärstrahler-Subreflektor und Abstand Subreflektor-Hauptreflektor sind als Fokussierungsparameter so aufeinander abgestieine optimale Fokussierung und Gesichtsfeldgröße einstellt. Die Fokussierungsparameter und die Bewegungsgeschwindigkeiten der beiden Antriebsmittel sind so eingestellt, dass sich eine lückenlose kontinuierliche Szenenabtastung durch den sich im Szenenabstand bewegenden Fokussierungsfleck (12) ergibt. Anwendung bei Fernerkundung, insbesondere Erdbeobachtung und Sicherheitstechnik.
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申请公布号 |
DE102008013066(B3) |
申请公布日期 |
2009.10.01 |
申请号 |
DE200810013066 |
申请日期 |
2008.03.06 |
申请人 |
DEUTSCHES ZENTRUM FUER LUFT- UND RAUMFAHRT E.V. |
发明人 |
PEICHL, MARKUS;DILL, STEPHAN;JIROUSEK, MATTHIAS;BERTHEL, DOMINIK |
分类号 |
H01Q3/12;G01S13/89;H01Q19/19 |
主分类号 |
H01Q3/12 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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