平台装置、微影装置及器件制造方法

摘要

为提高微影装置之生产率，描述一种用于固持两个图案化器件之平台装置。该等图案化器件经配置使得在扫描方向中该等图案之间的距离对应于在扫描方向中该图案之长度。藉此，可藉由用一第一图案曝光一第一晶粒、跳过邻近该第一晶粒的一第二晶粒且使用一第二图案曝光邻近该第二晶粒的一第三晶粒来执行改良之曝光顺序。

主权项

一种用于一微影装置之平台装置，该微影装置包括一经组态以在一基板上投影一图案之投影系统，该平台装置包含：一第一载物台，其经组态以固持一第一图案化器件；一第二载物台，其经组态以固持一第二图案化器件，该第一及该第二图案化器件之每一者包括一图案，且该第一及该第二图案化器件经配置以使得该第一图案化器件之该图案及该第二图案化器件之该图案在一扫描方向中互相邻近；一定位器件，其经组态以定位该第一及该第二图案化器件及该基板，及一经组态以控制该定位器件之控制器件，该控制器件经建构且经配置成为该定位器件提供一设定点，其经调适以：(i)使该第一图案化器件相对于该微影装置之该投影系统加速至一第一预定速度，(ii)使该基板相对于该投影系统加速至一预定扫描速度，以便在大体上维持该扫描速度的同时将该第一图案化器件之该图案投影至该基板之一第一场上；(iii)大体上以该预定扫描速度移动该基板以便跳过该基板上的一非零数字之曝光场间距之一曝光，该非零数字之曝光场间距经配置成在该扫描方向中邻近该第一场；且(iv)使该第二图案化器件相对于该投影系统加速至该第一预定速度，以便将该第二图案曝光至该基板之一第二场上，该第二场经配置成在该扫描方向中邻近该基板上的该非零数字之曝光场间距。