使用单一光罩于多重蚀刻步骤的微影制程

摘要

本发明主要是提供一光学微影制程中，其中光阻在曝光后先经过烘烤才进行显影，使得光阻的转移图案的周围会产生光阻残留物。由于光阻残留物的厚度较光阻层的厚度为低，这种显影后的光阻可以提供多重次蚀刻制程的遮罩。

主权项

一种使用单一光罩用于多重蚀刻的微影制程，包含：提供一底材以及一光阻层位于该底材上；以一光罩对该光阻层曝光；对该光阻层进行硬烤；以及对该光阻层进行显影以形成一多重蚀刻的遮罩。