发明名称 |
现场基板检验用之系统、方法与设备 |
摘要 |
一种检验基板用之系统,包含:相机及光源。相机系经定位而朝向一视野范围。该视野范围至少包含基板之第一表面的第一部分。该光源系以相对于基板之第一表面的第一角度β来加以定位而朝向该视野范围。亦包含一种检验基板用之方法。 |
申请公布号 |
TWI315554 |
申请公布日期 |
2009.10.01 |
申请号 |
TW094142990 |
申请日期 |
2005.12.06 |
申请人 |
兰姆研究公司 |
发明人 |
亚力山得 欧萨斯;杰洛斯罗W. 威尼柴克;卢威 纳萨;亚伦 休普;佛瑞德C. 瑞德克;艾瑞克 依德柏格 |
分类号 |
H01L21/66 |
主分类号 |
H01L21/66 |
代理机构 |
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代理人 |
许峻荣 |
主权项 |
一种基板检验用之系统,包含:一相机,具有一中心线,其中该中心线系经定位而朝向一视野范围,其中该视野范围至少包含该基板之一第一表面的一第一部分;一光源,系以相对于该基板之该第一表面成一第一角度β来加以定位而朝向该视野范围,其中该第一角度β使该光源定向,以发出照射至该视野范围内之该第一表面的光,该光源更以相对于该中心线成一第二角度δ来加以定位,该第二角度δ系介于约90度及小于约180度间,该中心线系以一第三角度α与该第一表面相交,该第三角度α系介于约20度及约33度间,选择该第一角度β以使从该第一表面之该第一部分到该相机的直接光反射最小化,其中该基板检验用之系统系包含于用以施加一制造处理于该基板的一处理室中,该制造处理系结合着该检验处理;及一控制器,连接至该基板检验用之系统,其中该光源包含复数点光源,其中该等点光源其中每一者具有一对应的选定光输出波长,且其中该控制器包含一逻辑,用于选择具有该选定光输出波长之该等光源其中一者,及用于选择复数强度位准其中一者,其中该选定光输出波长及该选定强度位准系对应于施加于该基板的该制造处理。 |
地址 |
美国 |