发明名称 具有平台式隔离之应变通道场效电晶体及其制造方法
摘要 本发明提出一种具有平台式隔离之应变通道场效电晶体,其包括一绝缘层和复数岛状之应变矽主动层。其中,岛状之应变矽主动层系设于绝缘层上,且岛状之应变矽主动层系彼此分隔。本发明同时提出其制造方法。
申请公布号 TWI315581 申请公布日期 2009.10.01
申请号 TW093102114 申请日期 2004.01.30
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 杨育佳;胡正明
分类号 H01L29/772 主分类号 H01L29/772
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项 一种具有平台式隔离之应变通道场效电晶体的制造方法,包括:提供一应变矽覆绝缘层型基底,其具有一应变矽层、一第一绝缘层和一基底之叠层结构;将该应变矽层定义出一主动区,并露出该主动区周围之该第一绝缘层的表面,以形成一突出于该第一绝缘层之岛状之应变矽主动层;形成一应变通道场效电晶体于该岛状之应变矽主动层上;以及形成一第二绝缘层,覆盖该应变通道场效电晶体、部分该岛状应变矽主动层和部分该第一绝缘层,使该应变通道场效电晶体予以隔绝。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号