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发明名称
具有平台式隔离之应变通道场效电晶体及其制造方法
摘要
本发明提出一种具有平台式隔离之应变通道场效电晶体,其包括一绝缘层和复数岛状之应变矽主动层。其中,岛状之应变矽主动层系设于绝缘层上,且岛状之应变矽主动层系彼此分隔。本发明同时提出其制造方法。
申请公布号
TWI315581
申请公布日期
2009.10.01
申请号
TW093102114
申请日期
2004.01.30
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
杨育佳;胡正明
分类号
H01L29/772
主分类号
H01L29/772
代理机构
代理人
洪澄文;颜锦顺
主权项
一种具有平台式隔离之应变通道场效电晶体的制造方法,包括:提供一应变矽覆绝缘层型基底,其具有一应变矽层、一第一绝缘层和一基底之叠层结构;将该应变矽层定义出一主动区,并露出该主动区周围之该第一绝缘层的表面,以形成一突出于该第一绝缘层之岛状之应变矽主动层;形成一应变通道场效电晶体于该岛状之应变矽主动层上;以及形成一第二绝缘层,覆盖该应变通道场效电晶体、部分该岛状应变矽主动层和部分该第一绝缘层,使该应变通道场效电晶体予以隔绝。
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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