发明名称 |
基板处理装置及基板处理方法 |
摘要 |
一种基板处理装置,包括:处理槽,存积处理液;处理液供给机构,向处理槽供给处理液;处理液排出机构,从处理槽排出处理液;第一存储单元,预先存储初次使用寿命计数,初次使用寿命计数规定了处理次数,处理次数是指在进行全部液体交换后允许利用槽中的处理液处理基板的次数;第二存储单元,预先存储通常使用寿命计数,通常使用寿命计数规定了处理次数,该处理次数是指,在达到初次使用寿命计数后进行部分液体交换,允许利用此时处理槽中的处理液处理基板的次数;控制单元,在全部液体交换后处理基板直至达到初次使用寿命计数,在达到初次使用寿命计数并进行部分液体交换后,每次达到所述通常使用寿命计数,一边进行部分液体交换一边处理基板。 |
申请公布号 |
CN101546696A |
申请公布日期 |
2009.09.30 |
申请号 |
CN200910127767.X |
申请日期 |
2009.03.25 |
申请人 |
大日本网屏制造株式会社 |
发明人 |
中岛保典;森祐介 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I;H01L21/3213(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I;G05B19/418(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
郭晓东;马少东 |
主权项 |
1. 一种基板处理装置,利用处理液对基板进行处理,其特征在于,所述装置包括:处理槽,其存积处理液,对基板进行规定的处理;处理液供给机构,其向所述处理槽供给处理液;处理液排出机构,其从所述处理槽排出处理液;第一存储单元,其预先存储初次使用寿命计数,所述初次使用寿命计数规定了处理次数,所述处理次数是指,在进行从所述处理液供给机构向所述处理槽供给新的处理液的全部液体交换后,允许利用所述处理槽中的处理液处理基板的处理次数;第二存储单元,其预先存储通常使用寿命计数,所述通常使用寿命计数规定了处理次数,该处理次数是指,在达到所述初次使用寿命计数后,进行部分液体交换,在部分液体交换后,允许利用所述处理槽中的处理液处理基板的处理次数,所述部分液体交换是指,通过所述处理液排出机构排出所述处理槽中规定量的一部分处理液,并且从所述处理液供给机构供给与所述规定量相当的新的处理液的部分液体交换;控制单元,其在全部液体交换后,处理基板直至达到所述初次使用寿命计数,在达到所述初次使用寿命计数并进行部分液体交换后,每次达到所述通常使用寿命计数,一边进行部分液体交换一边处理基板。 |
地址 |
日本京都府京都市 |