发明名称 导电性高分子合成用氧化剂兼掺杂剂、其醇溶液、导电性高分子以及固体电解电容器
摘要 本发明提供即使配成醇溶液,在一定期间以上也不会产生沉淀,且氧化能力并不过强的氧化剂兼掺杂剂,提供采用它得到的导电性高、耐热性优良的导电性高分子,以及提供采用该导电性高分子,在高温条件下可靠性高的固体电解电容器。由通式(1)(式中,R为碳原子数为1~4的烷基或烷氧基)表示的、苯环上的R基团与SO<sub>3</sub>H基团相互位于对位的苯磺酸衍生物占全部苯磺酸衍生物的90摩尔%以上的苯磺酸衍生物和硫酸组成的酸的铁盐构成氧化剂兼掺杂剂,上述硫酸的含量为全部酸的0.05~1.5质量%,无机碱的总含量为300ppm以下,且有机碱的总含量为0.01摩尔%以下,且8质量%的水溶液的pH为1.5~3.0。采用该氧化剂兼掺杂剂合成导电性高分子,以其作为固体电解质构成固体电解电容器。
申请公布号 CN101547956A 申请公布日期 2009.09.30
申请号 CN200880001017.1 申请日期 2008.06.17
申请人 帝化株式会社 发明人 杉原良介;近藤雅之;鹤元雄平
分类号 C08G61/12(2006.01)I;H01G9/035(2006.01)I 主分类号 C08G61/12(2006.01)I
代理机构 北京三幸商标专利事务所 代理人 刘激扬
主权项 1、一种导电性高分子合成用氧化剂兼掺杂剂,其特征在于包含由苯磺酸衍生物与硫酸组成的酸的铁盐,所述苯磺酸衍生物为通式(1)表示的苯磺酸衍生物,<img file="A200880001017C00021.GIF" wi="661" he="208" />式中,R表示碳原子数为1~4的烷基或烷氧基,苯环上的R基团与SO<sub>3</sub>H基团相互位于对位的苯磺酸衍生物占全部苯磺酸衍生物的90摩尔%以上,上述硫酸的含量为全部酸的0.05~1.5质量%,作为无机碱成分的碱金属和碱土金属的总含量为300ppm以下,且作为有机碱成分的氨和胺类的总含量为0.01摩尔%以下,并且配成浓度为8质量%的水溶液时的pH为1.5~3.0。
地址 日本国大阪府