| 发明名称 | 一种阻止工业水处理系统中二氧化硅垢沉积的复合阻硅阻垢剂 | ||
| 摘要 | 本发明属于工业水处理技术领域，具体涉及一种用于阻止工业水处理系统中二氧化硅垢沉积的复合阻硅阻垢剂，即在工业水处理系统中加入含有己二酸/端氨基聚醚/二乙烯三胺共聚物和聚天冬氨酸钠的复合阻硅阻垢剂，己二酸/端氨基聚醚/二乙烯三胺共聚物与聚天冬氨酸钠的重量比为10∶1～2∶1，以使这两种聚合物在工业水处理系统中发挥稳定的协同阻止硅垢沉积的效应。本发明所用的己二酸/端氨基聚醚/二乙烯三胺共聚物是一种含有醚键、仲胺键、肽键结构的非离子型聚合物，具有明显阻止的水中硅垢沉积的功能。本发明复合阻硅阻垢剂所用的聚天冬氨酸钠能明显提高己二酸/端氨基聚醚/二乙烯三胺共聚物的阻止硅垢沉积的效果。本发明提供了一种不含磷、生物可降解的环保型阻止工业水处理系统中硅垢沉积的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN100545212C | 申请公布日期 | 2009.09.30 |
| 申请号 | CN200810034885.1 | 申请日期 | 2008.03.20 |
| 申请人 | 同济大学 | 发明人 | 张冰如;李风亭 |
| 分类号 | C08L77/08(2006.01)I;C08L77/02(2006.01)I;C02F5/12(2006.01)I | 主分类号 | C08L77/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人 | 张 磊 |
| 主权项 | 1、一种阻止工业水处理系统中二氧化硅垢沉积的复合阻硅阻垢剂，其特征在于所述复合阻硅阻垢剂由己二酸/端氨基聚醚/二乙烯三胺共聚物和聚天冬氨酸钠组成，己二酸/端氨基聚醚/二乙烯三胺共聚物与聚天冬氨酸钠之间的重量比为10∶1～2∶1；所述己二酸/端氨基聚醚/二乙烯三胺共聚物是一种非离子型聚合物，具有如下结构式：<img file="C2008100348850002C1.GIF" wi="1538" he="143" />式中n、x、y、z分别表示平均聚合度，均为整数，其中n为2～3，x+z为1～50，y为1～50，其中<maths num="0001"><![CDATA[<math><mrow><mfrac><mrow><mi>x</mi><mo>+</mo><mi>z</mi></mrow><mi>y</mi></mfrac><mo>=</mo><mn>0.98</mn><mo>~</mo><mn>1.02</mn><mo>,</mo></mrow></math>]]></maths><maths num="0002"><![CDATA[<math><mrow><mfrac><mi>x</mi><mi>z</mi></mfrac><mo>=</mo><mn>0.05</mn><mo>~</mo><mn>0.3</mn><mo>;</mo></mrow></math>]]></maths>所述聚天冬氨酸钠具有如下结构式：<img file="C2008100348850002C4.GIF" wi="758" he="300" />式中，聚合度m及n为整数，m+n为15～100。 | ||
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