| 发明名称 | 制备包含纳米结构的场致发射阵列 | ||
| 摘要 | 通过单独制备一端涂覆的纳米结构，然后将该纳米结构的涂覆端粘附到在衬底上形成的金属电极层上，来制造不含任何有机材料的场致发射阵列。 | ||
| 申请公布号 | CN100545985C | 申请公布日期 | 2009.09.30 |
| 申请号 | CN200410063920.4 | 申请日期 | 2004.06.11 |
| 申请人 | 三星康宁精密琉璃株式会社 | 发明人 | 郑京泽;金明洙;金冠九;赵硕显 |
| 分类号 | H01J9/02(2006.01)I;H01J1/304(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I;B82B1/00(2006.01)I | 主分类号 | H01J9/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 于 辉 |
| 主权项 | 1.一种制备场致发射阵列的方法，该方法包括以下步骤：(1)在第一衬底上形成金属催化剂层，然后在该催化剂层上生长许多纳米结构；(2)用选自金属、合金、以及金属的氧化物、氮化物、碳化物、硫化物和氯化物中的至少一种材料涂覆每个生成的纳米结构的一端；(3)将一端涂覆的纳米结构与第一衬底分离，然后将它们放在形成在第二衬底上的图案金属电极层上；和(4)使纳米结构的涂覆端粘附在金属电极层上。 | ||
| 地址 | 韩国庆尚北道龟尾市 | ||