用于薄膜卷带的曝光站

摘要

本发明涉及一种用于在薄膜卷带(3)的至少一个层中形成局部成形的区域的曝光站(1)，以及通过所述曝光站(1)生成的、包括具有不同光学特性的局部成形的区域的光学可变单元。所述曝光站(1)包括至少一个用于照射薄膜卷带(3)的辐射源(11)，此外还包括一个掩膜带(2)，该掩膜带具有表现出不同光学特性的局部成形的区域，并在至少一个辐射源(11)和薄膜卷带(3)之间的光路内被引导通过一个曝光区域(18)。所述曝光站(1)具有至少两个用于引导所述掩膜带和/或所述薄膜卷带的引导装置(182，183)，所述引导装置被如此设置：使得所述掩膜带(2)在曝光区域内平行于薄膜卷带(3)被引导。本发明所述的曝光站(1)还包括耦合装置(181，182，183，184)，用于使所述掩膜带(2)和所述薄膜卷带(3)以相同的速度在所述曝光区域内运动。

主权项

1.用于在薄膜卷带(3，6)的一个或多个层中形成局部成形的区域的曝光站(1，4)，其中所述曝光站(1，4)具有一个或多个用于照射所述薄膜卷带(3，6)的辐射源(11，41)，其中所述曝光站(1，4)具有一个掩膜带(2，5)，该掩膜带具有表现出不同光学特性的局部成形的区域(231，232，233，234)，其中所述曝光站(1，4)具有两个或更多个用于引导所述掩膜带(2，5)和/或用于引导所述薄膜卷带(3，6)的引导装置(181，182，183，184；461，462，82，83)，这些引导装置被如此设置：使得所述掩膜带(2，5)在所述一个或多个辐射源(11，41)和所述薄膜卷带(3，6)之间的射线路径上被引导通过一个曝光区域，并且其中所述曝光站(1，4)具有耦合装置(182，183；7)，用于使所述掩膜带(2，5)以和所述薄膜卷带(3，6)相同的速度通过所述曝光区域，其特征在于，所述掩膜带(2，5)具有一个载体层(221)，该载体层由对于所述一个或多个辐射源(11，41)发出的射线具有透射性的材料构成，并且所述掩膜带(2，5)具有：a)表现出不同光折射系数的局部成形区域，和/或b)表现出不同偏振特性的局部成形区域(231，232，233，234)，和/或c)表现出不同反射特性的局部成形区域。