发明名称 等离子体处理装置及其绝缘盖板
摘要 一种等离子体处理装置及其绝缘盖板,其中绝缘盖板包括盖板与多个侧盖板。盖板具有主体部以及环绕主体部的凸缘部,且主体部具有多个第一气孔。这些侧盖板分别具有一圆角与一承靠面,其中各侧盖板与其余侧盖板其中的两个侧盖板相邻,且各侧盖板通过圆角而邻靠于盖板的主体部旁。各侧盖板的承靠面则是承靠于盖板的凸缘部。由于此绝缘盖板由盖板及多个侧盖板拼接而成,因此除了可以增加绝缘盖板的抗离子轰击强度以提高制程合格率之外,更可以针对绝缘盖板的损坏处进行侧盖板的修补或是更换低成本的盖板,进而节省设备成本。
申请公布号 CN101546702A 申请公布日期 2009.09.30
申请号 CN200910141055.3 申请日期 2009.05.18
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 蔡世华;徐茂平;陈衍光
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;H01L37/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 冯志云;郑特强
主权项 1. 一种等离子体处理装置,包括:一腔室;一气体供应单元,连接至该腔室,用以提供一气体至该腔室内;一下电极板,配置于该腔室内;一上电极板,配置于该腔室内,并位于该下电极板上方;一电源,电性连接至该上电极板与该下电极板;一支撑框架,配置于该腔室内,并位于该下电极板与该上电极板之间;以及一绝缘盖板,配置于该支撑框架与该下电极板之间,该绝缘盖板包括:一中央盖板,具有一主体部以及一凸缘部,其中该主体部具有多个第一气孔,用以供该气体通过,而该凸缘部环绕该主体部;以及多个侧盖板,分别具有一圆角以及一承靠面,其中各侧盖板与其余侧盖板其中的两个侧盖板相邻,且各侧盖板通过该圆角而邻靠于该中央盖板的该主体部旁,各侧盖板的该承靠面则承靠于该中央盖板的该凸缘部。
地址 中国台湾新竹市