| 发明名称 |
PROCEDE DE PURIFICATION DE SILICIUM POUR APPLICATIONS PHOTOVOLTAIQUES |
| 摘要 |
La présente invention porte sur un procédé de purification de silicium par exposition de silicium liquide (3) à un plasma (20), dans lequel le silicium (3) s'écoule de manière continue dans un canal (4) de telle sorte que sa surface libre soit exposée au plasma (20).L'invention porte également sur un dispositif permettant de mettre en oeuvre ledit procédé.
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| 申请公布号 |
FR2928641(A1) |
申请公布日期 |
2009.09.18 |
| 申请号 |
FR20080051692 |
申请日期 |
2008.03.14 |
| 申请人 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (C.N.R.S.) ETABLISSEMENT PUBLIC A CARACTERE SCIENTIFIQUE ET TECHNOLOGIQUE;INSTITUT POLYTECHNIQUE DE GRENOBLE |
发明人 |
TRASSY CHRISTIAN CLAUDE CYPRIEN;DELANNOY YVES JEAN NOEL |
| 分类号 |
C01B33/037 |
主分类号 |
C01B33/037 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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