发明名称 Schauerkopf und Substratbearbeitungsvorrichtung
摘要 Es wird ein Schauerkopf in einer Bearbeitungskammer zum darin Bearbeiten eines Substrats bereitgestellt. Ferner weist der Schauerkopf eine Vorderoberfläche auf, die einem Anbringtisch zum darauf Anbringen des Substrats zugewandt ist, und dazu dient, ein oder mehrere Gase durch die Vorderoberfläche zu dem Substrat zuzuführen. Der Schauerkopf enthält eine mittlere Gaszufuhreinheit zum Zuführen eines ersten Gases durch einen mittleren Abschnitt der Vorderoberfläche zu dem Substrat, eine Umfangsgaszufuhreinheit zum Zuführen eines zweiten Gases durch einen Umfangsabschnitt der Vorderoberfläche zu dem Substrat und eine Gasabsaugeinheit, die mit einer Mehrzahl von Gasabsaugöffnungen vorgesehen ist, die zwischen der mittleren und der Umfangsgaszufuhreinheit ausgebildet sind, zum Absaugen des ersten und des zweiten Gases von der Vorderoberfläche.
申请公布号 DE102009012878(A1) 申请公布日期 2009.09.17
申请号 DE200910012878 申请日期 2009.03.12
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 IIZUKA, HACHISHIRO;KIRIISHI, FUMIKO;KOMIYAMA, TSUYOSHI
分类号 C23C16/455;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/3065 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人
主权项
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