| 发明名称 |
Retikel zur Verwendung bei einem Halbleiterlithografiesystem und Verfahren zum Modifizieren desselben |
| 摘要 |
Ein Retikel zur Verwendung bei einem Halbleiterlithografiesystem umfasst zumindest zwei getrennte Retikelteile. Jeder Teil umfasst ein Muster, das lithografisch auf ein Substrat übertragen werden soll. Zumindest einer der zwei getrennten Retikelteile ist unabhängig ersetzbar. |
| 申请公布号 |
DE102009010276(A1) |
申请公布日期 |
2009.09.17 |
| 申请号 |
DE20091010276 |
申请日期 |
2009.02.24 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
TEMCHENKO, VLAD;SCHNEIDER, JENS |
| 分类号 |
G03F1/08 |
主分类号 |
G03F1/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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